新资料行业半导体废气处置的方式。半导体行业与守旧资料比拟,新资料财产存在手艺高度聚集,研讨与开辟本钱高,产物的附带值高,出产与墟市的强,利用规模广,成长远景好。
1、半导体创造工艺过程当中蒸发种种无机废气,废气排放存在排宇量大、排放浓度小的特性。这些废气排放首要能够分为四类:酸碱气体、无机废气。
⑴酸碱废气首要来自分散、CVD、CMP及刻蚀等工序,这些工序利用酸碱洗濯液对晶片停止洗濯。今朝,在半导体创造工艺中利用遍及的洗濯溶剂为过氧化氢和硫酸的夹杂剂。
⑶无机废气首要来历于光刻、显影、刻蚀及分散等工序,在这些工序中要用无机溶液对晶片外表停止洗濯,其蒸发发生的废气是无机废气的来历之一:同时,在光刻、刻蚀等过程当中利用的光阻剂中含有易蒸发的无机溶剂,如醋酸丁酯等,在晶片处置过程当中也要蒸发到大气中。
半导体工艺过程当中无机废气存在排放风量大、浓度低和成份纷乱的特性,利用其余的处置手艺难以到达称心的处置结果。少许半导体企业已采取沸石转轮+催化熄灭手艺。
沸石转轮+催化熄灭VOCs处置装备,是将吸附稀释单位和热氧化单位无机地联合起来的一种方式,首要针对微风量、低浓度的无机废气,经吸附污染并脱附后变换成小风量、高浓度的无机废气,对其停止燃烧处置,并将无机物熄灭开释的热量有用使用。
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